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更新時間:2025-08-21

台灣美日先進光罩股份有限公司

PHOTRONICS DNP MASK CORPORATION
稅籍狀態
營業中
股票代碼
-
所在地
新竹市東區
成立年份
1997-10-06
同地址公司
關聯企業
-
標案黑名單
-
訴訟記錄
專利證書
7 筆資料
資料來源:經濟部智慧財產局
序號專利名稱類別公告號IPCLOC有效期限效期狀態
1光罩、光罩的製造方法及半導體光罩基板發明I676076G03F1/26 G03F1/22 -2022-10-31失效
2光罩的製程方法、電漿製程設備及固定框發明I662643H01L21/677 H01L21/68 H01L21/683 H01L21/308 -2022-06-10失效
3光罩製程方法發明I652543G03F1/26 -2022-02-28失效
4電漿蝕刻腔體的氣體側噴嘴與電漿反應裝置發明I618111H01J37/32 H01L21/3065 -2021-03-10失效
5電漿製程的光罩基板支撐結構發明I587442H01L21/683 H01J37/32 -2021-06-10失效
6用於電漿處理的製程方法以及光罩板材發明I550134C23C4/10 C23C4/12 -2020-09-20失效
7陰影式光罩結構及製程方法發明I377437G03F1/32 -2020-11-20失效
商標認證
3 筆資料
資料來源:經濟部智慧財產局
序號商標圖樣圖樣文字商標權人註冊編號申請案號有效期限
1PDMC設計圖PDMC設計圖台灣美日先進光罩股份有限公司020382581080446512030/01/31
2PSMC及圖PSMC及圖台灣美日先進光罩股份有限公司008636070870284472029/08/15
3PSMC及圖PSMC及圖台灣美日先進光罩股份有限公司001105850870284482029/06/15
進出口額貿易額
12 筆資料
資料來源:經濟部國際貿易局
序號年度總進口額總出口額
1202510 百萬美元(含)以上10 百萬美元(含)以上
2202410 百萬美元(含)以上10 百萬美元(含)以上
3202310 百萬美元(含)以上10 百萬美元(含)以上
4202210 百萬美元(含)以上10 百萬美元(含)以上
5202110 百萬美元(含)以上10 百萬美元(含)以上
6202010 百萬美元(含)以上10 百萬美元(含)以上
7201910 百萬美元(含)以上10 百萬美元(含)以上
8201810 百萬美元(含)以上10 百萬美元(含)以上
9201710 百萬美元(含)以上10 百萬美元(含)以上
10201610 百萬美元(含)以上10 百萬美元(含)以上
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13 筆資料
資料來源:各大網路新聞
序號新聞新聞來源新聞日期
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新聞情緒:偏正面
新聞作者:羅蔚舟
蕃薯藤yam2023-05-04
4
新聞情緒:偏正面
新聞作者:PChome新聞
PChome新聞2023-05-04
5
新聞情緒:偏正面
新聞作者:記者黃雅蘭
LINE TODAY2023-05-04
6
新聞情緒:偏正面
新聞作者:黃雅蘭
蕃薯藤yam2023-05-04
7
新聞情緒:偏正面
新聞作者:李春台
yahoo!奇摩新聞2023-05-04
8
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新聞作者:大成報
大成報2023-05-04
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