序號 | 專利名稱 | 類別 | 公告號 | IPC | LOC | 有效期限 | 效期狀態 |
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1 | 用於物理氣相沉積的晶圓承載組件、套件及設備 | 新型 | M647449 | C23C14/56 C23C16/44 H01L21/205 H01L21/67 | - | 2024-10-20 | 失效 |
2 | 用於晶圓傳送機械臂的晶圓托盤及設備 | 新型 | M646731 | B65G47/90 B65G49/07 H01L21/677 H01L21/687 | - | 2024-09-30 | 失效 |
3 | 將載板送入超高真空加熱腔室以及超低溫磁控離子反應式蝕刻腔體中加工之方法 | 發明 | I738401 | H01L21/02 H01L21/673 H01L21/677 H01L21/687 | - | 2022-08-31 | 失效 |
4 | 用於物理氣相沉積鍍膜之晶圓遮蔽件 | 新型 | M566213 | C23C14/22 | - | 2020-08-31 | 失效 |
5 | 半導體除氣設備 | 新型 | M566400 | H01L21/67 | - | 2020-08-31 | 失效 |
6 | 用於加熱晶圓之除溢散氣設備 | 新型 | M546012 | H01L23/34 | - | 2021-07-20 | 失效 |
7 | 半導體設備及其處理腔室與被處理體搬運方法 | 發明 | I549218 | H01L21/677 H01L21/687 | - | 2020-09-10 | 失效 |
8 | 靜電吸附盤及其半導體設備 | 新型 | M514649 | H01L21/67 H01L23/34 | - | 2020-12-20 | 失效 |
9 | 層疊式靜電吸附盤及其半導體設備 | 新型 | M503654 | H01L21/67 H01L23/34 | - | 2021-06-20 | 失效 |
10 | 半導體設備之冷卻系統 | 新型 | M503657 | H01L23/34 | - | 2020-06-20 | 失效 |
序號 | 商標圖樣 | 圖樣文字 | 商標權人 | 註冊編號 | 申請案號 | 有效期限 |
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1 | ![]() | 力鼎精密 Leading Precision Inc. 及圖 | 力鼎精密股份有限公司 | 01348080 | 097010986 | 2029/01/15 |
2 | ![]() | 力鼎精密股份有限公司標章 | 力鼎精密股份有限公司 | 01349028 | 097010988 | 2029/01/31 |
序號 | 年度 | 總進口額 | 總出口額 |
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1 | 2025 | 0.5-1 百萬美元 | 0-0.5 百萬美元 |
2 | 2024 | 0-0.5 百萬美元 | 1-2 百萬美元 |
3 | 2023 | 0-0.5 百萬美元 | 0-0.5 百萬美元 |
4 | 2022 | 0-0.5 百萬美元 | 1-2 百萬美元 |
5 | 2021 | 2-3 百萬美元 | 0-0.5 百萬美元 |
6 | 2020 | 0-0.5 百萬美元 | 0-0.5 百萬美元 |
7 | 2019 | 0.5-1 百萬美元 | 1-2 百萬美元 |
8 | 2018 | 0-0.5 百萬美元 | 0-0.5 百萬美元 |
9 | 2017 | 0-0.5 百萬美元 | 2-3 百萬美元 |
10 | 2016 | 0-0.5 百萬美元 | 0-0.5 百萬美元 |
序號 | 獎項名稱 | 獲獎時間 | 獲獎 | 頒獎單位 | 備註 |
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1 | 創新研究獎 | 2019 | - | 經濟部中小企業處 | 連續式超高真空輻射加熱反應腔室 |
序號 | 新聞 | 新聞來源 | 新聞日期 |
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1 | 新聞情緒:偏正面 新聞作者:焦點時報-羅大元 | PChome新聞 | 2024-12-30 |
2 | 新聞情緒:偏正面 新聞作者:-羅大元 | 蕃薯藤yam | 2024-12-30 |
3 | 新聞情緒:偏正面 新聞作者:大成報 | PChome新聞 | 2024-12-30 |
4 | 新聞情緒:偏正面 新聞作者:PChome新聞 | PChome新聞 | 2024-12-30 |
5 | 新聞情緒:偏正面 新聞作者:羅林 | 大成報 | 2024-12-30 |
6 | 新聞情緒:偏正面 新聞作者:羅蔚舟 | 勁報 | 2024-12-30 |