| 序號 | 專利名稱 | 類別 | 公告號 | IPC | LOC | 有效期限 | 效期狀態 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 用於預清除及蝕刻設備之高溫塗層及相關方法 | 發明 | I835892 | C23C16/44 C23C16/455 H01L21/306 | - | 2025-03-20 | 失效 |
| 2 | 基座 | 設計 | D228949 | - | 13-99 | 2024-12-10 | 失效 |
| 3 | 基座 | 設計 | D228948 | - | 13-99 | 2024-12-10 | 失效 |
| 4 | 與氫自由基一起使用的設備及使用該設備的方法 | 發明 | I810254 | H01L21/67 B08B17/06 B08B5/00 C23C16/40 H01J37/00 | - | 2024-07-31 | 失效 |
| 5 | 於單一加工腔室中自半導體膜移除氧化物及碳之裝置及方法 | 發明 | I794238 | B08B17/02 H01L21/67 | - | 2024-02-29 | 失效 |
| 6 | 半導體沉積反應器環以及支架 | 設計 | D223767 | - | 13-99 | 2024-02-10 | 失效 |
| 7 | 半導體沉積反應器環以及支架 | 設計 | D223766 | - | 13-99 | 2024-02-10 | 失效 |
| 8 | 半導體沉積反應器環以及支架 | 設計 | D223765 | - | 13-99 | 2024-02-10 | 失效 |
| 9 | 半導體沉積反應器環以及支架 | 設計 | D223524 | - | 13-99 | 2024-02-10 | 失效 |
| 10 | 舉升銷 | 設計 | D221656 | - | 13-99 | 2023-10-10 | 失效 |
| 序號 | 新聞 | 新聞來源 | 新聞日期 |
|---|---|---|---|
| 1 | 新聞情緒：偏正面 新聞作者：中央社 | 華視新聞網 | 2025-09-12 |
| 2 | 新聞情緒：偏正面 新聞作者：中央社 | 華視新聞網 | 2025-09-12 |
| 3 | 新聞情緒：偏負面 新聞作者：中央社 | 華視新聞網 | 2025-09-12 |
| 4 | 新聞情緒：偏負面 新聞作者：中央社 | 華視新聞網 | 2025-09-12 |
| 5 | 新聞情緒：偏中立 新聞作者：張予柔 | 民視新聞 | 2025-09-12 |
| 6 | 新聞情緒：偏中立 新聞作者：黃雯犀 | 中時新聞網 | 2025-09-12 |
| 7 | 新聞情緒：偏中立 新聞作者：林士傑 | 噓！星聞 | 2025-09-12 |
| 8 | 新聞情緒：偏中立 新聞作者：PChome新聞 | PChome新聞 | 2025-09-11 |
| 9 | 新聞情緒：偏中立 新聞作者：勁報 | 蕃薯藤yam | 2025-09-11 |
| 10 | 新聞情緒：偏中立 新聞作者：伍映澄 | 中天新聞網 | 2025-09-11 |
