序號 | 專利名稱 | 類別 | 公告號 | IPC | LOC | 有效期限 | 效期狀態 |
---|---|---|---|---|---|---|---|
1 | 垂直式雙腔室退火處理裝置 | 發明 | I861667 | H01L21/324 H01L21/322 | - | 2026-11-10 | 有效 |
2 | 雙腔室壓力控制方法與雙腔室壓力控制裝置 | 發明 | I857462 | H01L21/324 H01L21/322 | - | 2026-09-30 | 有效 |
3 | 半導體高壓退火裝置 | 發明 | I830583 | H01L21/324 H01L21/322 | - | 2027-01-20 | 有效 |
4 | 半導體裝置的製造方法 | 發明 | I808477 | H01L21/205 H01L21/322 | - | 2026-07-10 | 有效 |
5 | 腔室結構 | 新型 | M643268 | H01L21/67 | - | 2024-06-30 | 失效 |
6 | 半導體元件的鈍化設備 | 新型 | M641701 | H05H1/46 H05H7/00 | - | 2024-05-31 | 失效 |
7 | 半導體缺陷修復的裝置及方法 | 發明 | I775691 | H01L21/67 H01L21/324 H01L21/02 | - | 2025-08-20 | 失效 |
序號 | 年度 | 總進口額 | 總出口額 |
---|---|---|---|
1 | 2025 | 0 | 0 |
2 | 2024 | 0 | 0 |
3 | 2023 | 0-0.5 百萬美元 | 0 |
4 | 2022 | 0 | 0 |
5 | 2021 | 0-0.5 百萬美元 | 0 |
6 | 2020 | 0 | 0 |